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高純半導體過濾器
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硅晶圓工藝特氣管道系統專用過濾器丨潔凈壓縮空氣管道過濾器

  • 恒歌 HF 系列硅晶圓工藝特氣管道專用過濾器,專為半導體制程特氣系統設計,采用 316L 不銹鋼一體成型結構,設計壓力 50Mpa,適配特氣管道的高壓高純輸送需求,可高效濾除氣體中 0.01μm 以上的塵埃、金屬顆粒、液態雜質及碳氫化合物,確保輸出氣體純度符合 SEMI 標準。
  • 產品詳情

1.設備介紹

硅晶圓工藝特氣管道系統是半導體制造的核心輸送鏈路,負責將光刻、蝕刻、沉積等關鍵制程所需的特種氣體(如硅烷、氨氣、氟化氫等)精準輸送至晶圓加工設備,直接影響芯片良率和性能穩定性,對氣體純度要求達 ppb 級。

2. 為何需要使用過濾器

硅晶圓制程中,特氣管道內壁的微小塵埃、金屬雜質、管道氧化層脫落物,以及氣體輸送過程中混入的液態微粒,會導致晶圓表面形成缺陷、電路短路或膜層不均勻,直接造成產品報廢。過濾器是阻擋污染物進入制程的最后一道關鍵屏障。

3. 過濾器介紹

恒歌 HF 系列硅晶圓工藝特氣管道專用過濾器,專為半導體制程特氣系統設計,采用 316L 不銹鋼一體成型結構,設計壓力 50Mpa,適配特氣管道的高壓高純輸送需求,可高效濾除氣體中 0.01μm 以上的塵埃、金屬顆粒、液態雜質及碳氫化合物,確保輸出氣體純度符合 SEMI 標準。

4. 產品特點

整體 316L 不銹鋼結構,無死角設計,避免二次污染

輕量化小型化,螺紋連接適配特氣管道緊湊安裝空間,兼容 C/W 型密封規格

耐高溫(-20℃~180℃)、耐高壓(50Mpa)、耐強腐蝕(適配酸性 / 堿性特氣)

過濾效率達 99.999%,不易堵塞,滿足長周期連續生產需求

100% 完整性測試及氨氣泄露檢測通過,符合半導體行業安全標準

濾芯可快速更換,維護不影響管道系統運行

5. 產品應用

適用于硅晶圓制造中的光刻、蝕刻、離子注入、化學氣相沉積(CVD)等制程的特氣管道系統,涵蓋 12 英寸 / 8 英寸晶圓生產線的特種氣體凈化。

6. 常見問答

Q1:過濾器的過濾精度能達到多少?

A1:常規提供 0.01μm、0.1μm、1μm 多種濾芯規格,可根據特氣類型和制程要求定制,最高過濾精度達 0.003μm。

Q2:是否兼容腐蝕性特氣(如氟化氫、氯氣)?

A2:主體采用 316L 不銹鋼,濾芯可選 PTFE、陶瓷等耐腐蝕材質,完全適配腐蝕性特氣場景。

Q3:維護周期是多久?

A3:根據氣體潔凈度和流量,常規維護周期為 6-12 個月,可通過壓差表監測濾芯狀態(壓差>0.3Mpa 時建議更換)。

7. 選型引導

硅晶圓特氣管道系統的氣體類型、壓力參數、過濾精度需求各不相同,如需精準選型,可聯系恒歌技術團隊獲取定制方案!


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