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超高純氣體擴散器
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半導體真空腔體快速放氣器丨0.003μm氣體擴散器過濾器

  • 深圳恒歌DF系列真空腔體快速放氣器,是針對半導體制造中真空腔體高效破真空需求研發的專用裝備。這款產品打破了“快速排氣與環境潔凈不可兼得”的行業瓶頸,通過不銹鋼粉末燒結介質的高效流通特性與0.003μm精密過濾能力,在實現毫秒級快速放氣的同時,杜絕氣流擾動與顆粒污染,為晶圓制程的連續性與穩定性提供核心支撐。
  • 產品詳情

深圳恒歌DF系列真空腔體快速放氣器,是針對半導體制造中真空腔體高效破真空需求研發的專用裝備。這款產品打破了“快速排氣與環境潔凈不可兼得”的行業瓶頸,通過不銹鋼粉末燒結介質的高效流通特性與0.003μm精密過濾能力,在實現毫秒級快速放氣的同時,杜絕氣流擾動與顆粒污染,為晶圓制程的連續性與穩定性提供核心支撐。

產品特點

● 極速排氣設計:優化的流道與燒結介質結構,實現真空腔體快速放氣,提升生產效率。

● 湍流抑制技術:全 316L 不銹鋼一體成型結構,引導氣流平穩流動,避免顆粒揚起。

● 納米級凈化過濾:過濾精度達 0.003μm,有效攔截氣體中微量顆粒,保護工藝環境。

● 全工況耐受性能:耐高溫、耐高壓且耐腐蝕,適配各類嚴苛工藝條件。

● 100% 質量認證:通過完整性測試與氦氣泄漏檢測,確保每臺設備性能可靠。


擴散器過濾器技術參數
濾芯材質    316L不銹鋼粉末燒結殼體材質  316L不銹鋼
表面處理   內表面  Ra ≥32μm過濾精度μm ≥0.003 可按需定制
最大進氣壓力 4bar最大工作壓差  5bar
最高使用溫度  400°C下游潔凈度<0.03particles/liter
@>0.01ym rated flow


應用場景

廣泛應用于半導體晶圓制造的各類真空工藝設備:在晶圓清洗機的真空干燥腔中,實現快速排氣的同時防止水汽攜帶顆粒污染;在薄膜蝕刻設備中,保障腔室破真空時的氣流穩定,避免蝕刻圖案變形;在晶圓傳輸腔中,配合自動化系統實現高效換片。特別適配 300mm 晶圓生產線的高節拍生產需求,同時可用于 LED 制造的 MOCVD 設備及半導體封裝測試的真空腔體系統。


擴散器1.jpg

氣體k擴散器1.jpg

擴散器2.jpg




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